Автор: В 2026 году в России начнется работа над первым литографом на 90 нанометров, согласно заявлению заместителя министра промышленности. В настоящее время уже разработан 350-нм литограф, а завершается создание 130-нм модели. Это событие является частью усилий по импортозамещению, начатых в 2022 году в сфере литографического оборудования. С использованием 90-нм технологии планируется производить микросхемы различных приложений, включая IoT, автоэлектронику и RFID-технологии. Основным разработчиком выступает Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). В марте 2026 года директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев отметил, что на повестке дня стоит освоение полного цикла фотолитографии без импорта, а также снижение себестоимости производства. Первые данные о стоимости литографа предполагают около 480 миллионов рублей, что соответствует современным технологиям. Ожидается, что к 2030 году станут доступными установки на 65 и 28 нм, что создаст основы для дальнейшего развития российской микроэлектроники.
