Автор: По информации, озвученной 20 марта 2026 года на конференции радиоэлектронной промышленности, Россия намерена приступать к работе над литографом для чипов с топологией 90 нанометров. Заместитель министра промышленности Василий Шпак сообщил, что исполнителя определят через конкурс. Работы по созданию литографа будут вести Зеленоградский нанотехнологический центр совместно с белорусским предприятием «Планар», которое уже разрабатывало литографы на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв отметил, что решение об участии в конкурсе ещё не принято. В то же время, центр планирует завершить создание степпера с разрешением 130 нм до ноября 2026 года. Академик Дмитрий Пшиченко заявил, что разработка нового литографа может занять от пяти до десяти лет и потребовать значительных инвестиций. Однако для создания 90 нм по существующим технологиям, достаточно будет доработать уже имеющиеся элементы и технологии.
