Автор: В Зеленограде состоялась презентация первого в России оборудования, способного производить микросхемы с топологией 65 нм на 300-миллиметровых пластинах. Это досижение стало результатом работы НИИ молекулярной электроники и НИИТМ, которые разработали установки для плазмохимического осаждения и травления, необходимых в производственных процессах чипов. В мире подобные технологии реализуют лишь пять компаний. Инвестиции в проект составили 2,5 миллиарда рублей, включая средства от Минпромторга и вложения НИИМЭ в создание чистых помещений. Новое оборудование позволяет гибко адаптироваться под различные производственные процессы, что улучшает качество продукции и снижает затраты. Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов подчеркнул, что это событие является важным шагом к технологической независимости России в микроэлектронике. Производители планируют искать клиентов как на внутреннем, так и на внешнем рынках, в том числе в Китае.
