Автор: Компания Dai Nippon Printing из Японии анонсировала важное усовершенствование в области нанолитографии, которое делает этот процесс более экономичным по сравнению с доминирующей на рынке фотолитографией, сообщает Nikkei Asia. В настоящее время нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для создания чипов, используя фотолитографию, основанную на мощных УФ-лазерах, что требует значительных энергетических затрат и инвестиций в оборудование в миллионы долларов. Новый подход Dai Nippon Printing к нанолитографии использует метод, при котором схемы отпечатываются на кремниевых пластинах, а не рисуются лазером. Инженеры компании разработали специальный материал, который преодолевает ограничения предыдущих технологий, позволяя создавать структуры размером до 1,4 нм. Это делает новый процесс на 90% более дешевым. Ведущие производители, включая Samsung, TSMC и Micron, проявили интерес к разработке, а Kioxia уже начала тестирование. Если испытания пройдут успешно, массовое внедрение ожидается к 2027–2028 годам.
