Автор: Китайская полупроводниковая промышленность сообщила о значительном достижении – создании первого прототипа установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта важная технология, ранее находившаяся под контролем голландской фирмы ASML, необходима для производства современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу данной технологии Китаю, новые данные подтверждают, что китайские инженеры добились значительного прогресса. В течение последних лет компании, такие как SMIC, пытались воспроизвести технологию ASML, используя устаревшие компоненты и привлекая специалистов для обратной разработки. Несмотря на достижение, серийное производство чипов с применением EUV еще не начато, однако Китай планирует запустить его в массовом масштабе к 2030 году. Этот успех происходит на фоне стремительного технологического соперничества между США и Китаем, особенно в свете роста искусственного интеллекта. В то же время компания Huawei совместно с SMIC активно развивает производственные мощности. Литографические машины EUV представляют собой результат многолетних глобальных исследований, использующих мощные лазеры для создания схем с минимальными элементами.
